ਉੱਚ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਗੈਲਿਅਮ

ਵਰਣਨ

ਉੱਚ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਗੈਲਿਅਮ, 99.999%, 99.9999% ਅਤੇ 99.99999% 5N 6N 7N, ਨਰਮ ਧਾਤ, ਤਰਲ ਅਵਸਥਾ ਵਿੱਚ ਚਾਂਦੀ ਦਾ ਚਿੱਟਾ ਅਤੇ ਠੋਸ ਅਵਸਥਾ ਵਿੱਚ ਨੀਲਾ ਚਿੱਟਾ, ਕਮਰੇ ਦੇ ਤਾਪਮਾਨ 'ਤੇ ਆਕਸੀਜਨ ਅਤੇ ਪਾਣੀ ਦੁਆਰਾ ਇਸ ਦਾ ਖਾਤਮਾ ਲਗਭਗ ਪ੍ਰਭਾਵਿਤ ਨਹੀਂ ਹੁੰਦਾ, ਸਿਰਫ ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ 'ਤੇ ਆਕਸੀਕਰਨ ਹੁੰਦਾ ਹੈ, ਅਤੇ ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆ ਕਰਦਾ ਹੈ। ਹੌਲੀ ਹੌਲੀ ਪਤਲਾ ਐਸਿਡ ਨਾਲ.ਧਾਤੂ ਗੈਲਿਅਮ ਨੂੰ ਦਿਸ਼ਾਤਮਕ ਕ੍ਰਿਸਟਲਾਈਜ਼ੇਸ਼ਨ ਵਿਧੀ ਦੀ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦੁਆਰਾ 99.999%, 99.9999% ਅਤੇ 99.99999% 5N 6N 7N ਤੱਕ ਸ਼ੁੱਧ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।ਵੈਸਟਰਨ ਮਿਨਮੈਟਲਸ (SC) ਕਾਰਪੋਰੇਸ਼ਨ ਵਿਖੇ 99.999%, 99.9999% ਅਤੇ 99.99999% 5N 6N 7N ਦੀ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਦੇ ਨਾਲ ਉੱਚ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਵਾਲਾ ਗੈਲੀਅਮ 100 ਗ੍ਰਾਮ, 500 ਗ੍ਰਾਮ ਜਾਂ 1000 ਗ੍ਰਾਮ ਵਜ਼ਨ ਦੇ ਕੰਟੇਨਰ ਦੇ ਰੂਪ ਵਿੱਚ ਡਿਲੀਵਰ ਕੀਤਾ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ, ਜੋ ਕਿ ਸੁਰੱਖਿਆ ਅਤੇ ਸੁੱਕੇ ਆਵਾਜਾਈ ਲਈ ਢੁਕਵੀਂ ਹੈ। ਆਈਸ ਸੁਰੱਖਿਆ, ਜਾਂ ਸੰਪੂਰਨ ਹੱਲ ਤੱਕ ਪਹੁੰਚਣ ਲਈ ਅਨੁਕੂਲਿਤ ਨਿਰਧਾਰਨ ਦੇ ਤੌਰ ਤੇ.

ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨਾਂ

ਉੱਚ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਗੈਲਿਅਮ ਮੁੱਖ ਤੌਰ 'ਤੇ III-V ਮਿਸ਼ਰਿਤ ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰਾਂ ਦੇ ਨਿਰਮਾਣ ਵਿੱਚ ਵਰਤਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਗੈਲਿਅਮ ਆਰਸੇਨਾਈਡ GaAs, ਗੈਲਿਅਮ ਫਾਸਫਾਈਡ GaP, Gallium Antimonide GaSb, ਨੀਲਾ ਗੈਲਿਅਮ ਨਾਈਟਰਾਈਡ GaN, ਮਾਈਕ੍ਰੋਵੇਵ ਸਰਕਟ, ਉੱਚ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਵਾਲੇ ਮਿਸ਼ਰਤ, ਆਕਸਾਈਡ ਸੈਮੀ-ਕੰਡਕਟਰ ਅਤੇ LED ਸੈਮੀ-ਕੰਡਕਟਰ। ਪਰਮਾਣੂ ਰਿਐਕਟਰ ਵਿੱਚ ਕੈਰੀਅਰ ਅਤੇ ਮੌਲੀਕਿਊਲਰ ਬੀਮ ਐਪੀਟੈਕਸੀ (MBE) ਸਰੋਤ ਸਮੱਗਰੀ ਦੇ ਰੂਪ ਵਿੱਚ, ਅਤੇ ਜਰਨੀਅਮ ਅਤੇ ਸਿਲੀਕਾਨ ਸਿੰਗਲ ਕ੍ਰਿਸਟਲ ਵਿਕਾਸ ਆਦਿ ਦੇ ਡੋਪੈਂਟ ਵਜੋਂ।

ਹੁਣ ਪੁੱਛਗਿੱਛ

ਵੇਰਵੇ

ਟੈਗਸ

ਤਕਨੀਕੀ ਨਿਰਧਾਰਨ

Ga

ਪਰਮਾਣੂ ਨੰ.	31
ਪਰਮਾਣੂ ਭਾਰ	67.2
ਘਣਤਾ	5.91g/cm3
ਪਿਘਲਣ ਬਿੰਦੂ	29.78°C
ਉਬਾਲਣ ਬਿੰਦੂ	2403°C
CAS ਨੰ.	7440-55-3
HS ਕੋਡ	8112.9290.99

ਵਸਤੂ	ਮਿਆਰੀ ਨਿਰਧਾਰਨ
	ਸ਼ੁੱਧਤਾ		ਅਸ਼ੁੱਧਤਾ (ICP-MS ਜਾਂ GDMS ਟੈਸਟ ਰਿਪੋਰਟ, PPM ਅਧਿਕਤਮ ਹਰੇਕ)
ਉੱਚ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਗੈਲੀਅਮ	5N	99.999%	Zn/Ca/Al/Ni/In 0.5, Mg/Mn 0.6, Si/Hg 1.0, Sn/Fe 0.8, Cu 1.5, Pb 1.8	ਕੁੱਲ ≤10
	6N	99.9999%	Zn/Mg/Pb/Sn/Fe 0.1, Si 0.2, Cu/Al/Ni/Mn/Cr 0.05	ਕੁੱਲ ≤1.0
	7N	99.99999%	Zn/Al/Ni/In 0.001, Mn 0.003, Cu/Ca/Mg/Pb/Sn 0.005, Si 0.05	ਕੁੱਲ ≤0.1
	ਆਕਾਰ		ਕੰਟੇਨਰ ਦੀ ਸ਼ਕਲ ਵਿੱਚ, 100 ਗ੍ਰਾਮ/500 ਗ੍ਰਾਮ/1000 ਗ੍ਰਾਮ ਪ੍ਰਤੀ ਬੋਤਲ
	ਪੈਕਿੰਗ		ਪਲਾਸਟਿਕ ਦੀ ਬੋਤਲ ਜਾਂ ਕੰਪੋਜ਼ਿਟ ਬੈਗ ਵਿੱਚ ਨੀਲੀ ਬਰਫ਼, ਡੱਬੇ ਵਾਲੇ ਡੱਬੇ ਜਾਂ ਬਾਹਰ ਲੋਹੇ ਦੇ ਡਰੰਮ।

ਉੱਚ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਗੈਲਿਅਮ5N 6N 7N ਪੱਛਮੀ ਮਿਨਮੈਟਲਸ (SC) ਕਾਰਪੋਰੇਸ਼ਨ ਵਿਖੇ 99.999%, 99.9999% ਅਤੇ 99.99999% ਦੀ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਦੇ ਨਾਲ 100g, 500g ਜਾਂ 1000g ਵਜ਼ਨ ਦੇ ਕੰਟੇਨਰ ਦੇ ਰੂਪ ਵਿੱਚ ਡਿਲੀਵਰ ਕੀਤਾ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ, ਜੋ ਸੁਰੱਖਿਆ ਅਤੇ ਸੁੱਕੇ ਬਰਫ਼ ਨਾਲ ਢੁਕਵੀਂ ਸੁਰੱਖਿਆ ਲਈ ਪੈਕ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਹੈ। ਜਾਂ ਸੰਪੂਰਨ ਹੱਲ ਤੱਕ ਪਹੁੰਚਣ ਲਈ ਅਨੁਕੂਲਿਤ ਨਿਰਧਾਰਨ ਦੇ ਤੌਰ ਤੇ.

ਉੱਚ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਗੈਲਿਅਮ99.999%, 99.9999% ਅਤੇ 99.99999% ਮੁੱਖ ਤੌਰ 'ਤੇ III-V ਮਿਸ਼ਰਿਤ ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰਾਂ ਦੇ ਨਿਰਮਾਣ ਵਿੱਚ ਵਰਤਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਗੈਲਿਅਮ ਆਰਸੇਨਾਈਡ GaAs, ਗੈਲਿਅਮ ਫਾਸਫਾਈਡ GaP, Gallium Antimonide GaSb, ਨੀਲਾ ਗੈਲਿਅਮ ਨਾਈਟਰਾਈਡ ਗੈਨ, ਮਾਈਕ੍ਰੋਕੋਨਾਈਡ ਗੈਨ, ਹਾਈਕੋਨਵਾਇਡ, ਹਾਈਕੋਨਾਈਡ, ਅਤੇ LED ਚਿੱਪ, ਪਰਮਾਣੂ ਰਿਐਕਟਰ ਵਿੱਚ ਥਰਮਲ ਕੈਰੀਅਰ ਅਤੇ ਮੌਲੀਕਿਊਲਰ ਬੀਮ ਐਪੀਟੈਕਸੀ (MBE) ਸਰੋਤ ਸਮੱਗਰੀ ਦੇ ਰੂਪ ਵਿੱਚ, ਅਤੇ ਜਰਨੀਅਮ ਸਿੰਗਲ ਕ੍ਰਿਸਟਲ ਅਤੇ ਸਿਲੀਕਾਨ ਸਿੰਗਲ ਕ੍ਰਿਸਟਲ ਵਿਕਾਸ ਆਦਿ ਦੇ ਡੋਪੈਂਟ ਵਜੋਂ।